|
НОВЫЕ ЭФФЕКТИВНЫЕ СИСТЕМЫ ГЕНЕРИРОВАНИЯ, | |||
| Позволяют осуществлять эффективное образование металлической и газометаллической плазмы, транспортировку рабочего вещества к изделию, очистку плазмы от микрокапельной фазы. | ||||
![]() |
![]() |
![]() | ||
| Покрытие, полученное без сепаратора плазмы | Источник плазмы с сепаратором | Покрытие,полученное с применением сепаратора | ||
|
НОВЫЕ СИСТЕМЫ ФОРМИРОВАНИЯ ПЛАЗМЕННЫХ ПОТОКОВ | ||||
| с высоким коэффициентом переноса массы плазмообразующего материала на изделие. Дают возможность получать моно- и много-слойные покрытия толщиной до 1-2 мм. | ||||
|
цилиндрические - для нанесения
покрытий на внутренние поверхности труб, конусов и т.д.,плоские - для равномерной обработки больших поверхностей (длина катода не имеет принципиальных ограничений). ![]() | ||||
| Катодный узел
длинномерного испарителя с цилиндрическим катодом. |
Камера установки с планарным катодом. | |||
|
| ||||
| включает ионное азотирование в
высокоплотных потоках плазмы со cкоростью 10 -150 мкм/ час на
глубину до 500 мкм, плюс нанесение покрытий необходимой толщины.
Повышает ресурс работы деталей и инструментов на 300 -2000%. | ||||
|
ПОКРЫТИЙ | ||||
| Свойства покрытий:
индифферентность к агрессивным средам; HV 8000…12000;
Коэффициент трения 0,03. Технология применяется для создания "безизносных" пар трения, просветления инфракрасной оптики, в производстве медицинского инструментария и других изделий, упрочнения инструмента, деталей видео/аудиоаппаратуры. | ||||
![]() |
![]() |
![]() | ||
| стадии роста алмазной пленки | ||||
|
| ||||
| от металлических до любых композиций металлов и их соединений (типа окислов, нитридов, карбидов) с уникальными свойствами. Обеспечивают высоко эфективное повышение износостойкости и долговечности покрытых деталей. | ||||
|
| ||||
| порошков и поликристаллических зерен сверхтвердых материалов, в том числе природных и синтетических алмазов (диаметр 400 мкм и более). | ![]() | |||